MASCARILLA FILTRANTE BLS ZER0 FLAT 33 FFP3 R D VALVULA TALLA M/L

La BLS Zer0 Flat 33 es una mascarilla filtrante plegable de tres paneles, clase FFP3 R D, con válvula EOLO® y diseño innovador que combina confort, alta filtración y durabilidad. Ideal para entornos con partículas finas, nanopartículas o uso prolongado.

Características principales

·Diseño plano de tres paneles: se adapta perfectamente a los movimientos faciales y facilita su colocación sin contaminar el interior.

·Válvula EOLO® de baja resistencia: mejora la salida del aire caliente, reduciendo el esfuerzo respiratorio y aumentando el confort.

·Capa externa ARMOR®: protege el filtro frente a polvo, suciedad, líquidos y estrés mecánico, alargando su vida útil.

·Nanofiltración testada: eficacia contra partículas ultrafinas de hasta 0,001 micras.

·Espuma térmica facial: sellado cómodo y adaptable al rostro.

·Clip nasal interno: mejora el ajuste sin comprometer la visibilidad ni la compatibilidad con gafas.

·Elásticos textiles sin partes metálicas: mayor resistencia y comodidad durante la jornada.

·Alta transpirabilidad: con un coeficiente de transmisión de vapor de agua de 3380 g/m² (ASTM E96), líder en su categoría.

·Campo visual amplio: diseño que no obstaculiza la visión periférica.

·Envase individual higiénico: ideal para conservar la mascarilla protegida hasta su uso.

Ventajas clave

·Protección FFP3 contra partículas finas y ultrafinas

·Confort respiratorio gracias a su válvula avanzada

·Compatible con gafas y pantallas faciales

Diseño ergonómico, plegable e higiénico

Datos técnicos

·Modelo: BLS Zer0 Flat 33

·Clase de protección: FFP3 R D (Reutilizable y con test de obstrucción superado)

·Válvula: sí (EOLO®)

·Forma: plana de tres paneles

·Sellado facial: parcial con espuma térmica

·Elásticos: textiles, sin grapas

·Talla: M/L

·Normativa: EN 149:2001+A1:2009

Aplicaciones recomendadas

·Manipulación de nanopartículas

·Polvos tóxicos, humos metálicos y agentes patógenos

·Procesos con riesgo de aerosoles finos

·Uso prolongado en ambientes de alta exigencia